電子化学品

兆飛科技は、電子グレード溶剤、化学原料、特殊配合製品など、高品質な電子化学品の輸入に注力しております。これらの製品は、半導体、オプトエレクトロニクス(光電子工学)、バッテリーなどの分野で幅広く応用されています。当社は豊富な輸入経験と専門チームを擁し、安定かつ信頼性の高い製品品質をお約束します。また、お客様のニーズに合わせたカスタマイズソリューション(オーダーメイドの解決策)を提供いたします。卓越した品質と優れたサービスを信念とし、お客様と共に電子産業の発展という目標を実現してまいります。

黄光工程

Photolithography Process

半導體黃光製程 (Photolithography Process) 視覺示意圖。兆飛科技進口高純度光阻劑、顯影劑與洗邊劑等電子化學品,協助提升高科技廠房的製程良率。
  • 開発者

    その学名はテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)で、主にフォトレジスト層の現像に使用されるアルカリ性水溶液であり、露光後に未硬化のフォトレジストを溶解して精密なマイクロリソグラフィーパターンを形成する。

    質問したいのですが
  • フォトレジスト

    科学的な名称は感光性ポリマーで、一般的な種類としてはポリメタクリル酸メチル(PMMA)やジアゾナフトキノンノボラック(DNQ-ノボラック)などが挙げられる。これらの材料は光にさらされると化学変化を起こし、半導体製造プロセスにおいてパターン形成に用いられる。

    質問したいのですが
  • エッチング剤

    一般的にフッ化水素酸(HF)またはリン酸(H₃PO₄)として知られるエッチング液は、エッチング対象物に応じて様々な種類が選択される。ウェットエッチングは主に、フォトレジストで保護されていない二酸化ケイ素や窒化ケイ素を除去し、回路構造を精密に形成するために用いられる。

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  • 接着促進剤

    その科学名はヘキサメチルジシラザン(HMDS)で、主にフォトレジストとウェーハ表面との密着性を向上させ、後続工程でのフォトレジスト層の剥離を防ぎ、パターンの完全性と信頼性を向上させるために使用されます。

    質問したいのですが
  • エッジビードリムーバー(EBR)

    一般的な科学名はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)で、主にウェーハの端にある余分なフォトレジストを除去し、汚染を防ぎ、後続のプロセスの品質への影響を回避するために使用される溶剤です。

    質問したいのですが

ウェハー関連原料

Wafer Processing Materials

深色背景上呈現虹彩網格狀圖案的半導體晶片特寫。兆飛科技專業供應 TEOS、HMDS 等高純度晶圓相關原料 (Wafer Processing Materials)。
  • テトラエチルオルトシリケート(TEOS)

    その科学名はテトラエチルオルトシリケート(TEOS)であり、化学気相成長法(CVD)プロセスにおいて二酸化ケイ素(SiO₂)薄膜を生成するために一般的に使用される前駆体であり、高い均一性と優れた誘電特性を提供し、半導体および光電子産業で広く使用されています。

    質問したいのですが
  • ヘキサメチルジシリルアミン(HMDS)

    学名はヘキサメチルジシラザン(HMDS)で、主にフォトレジストのウェハ表面への密着性を向上させるために使用される表面処理剤です。フォトリソグラフィ工程におけるフォトレジスト層の安定性を向上させ、剥離のリスクを低減し、リソグラフィパターンの解像度を高めることができます。

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  • トランスLC

    正式名称は低応力炭化ケイ素(Trans-LC)で、特殊なシリコン・カーボン材料です。プロセス中の機械的応力を低減するために低応力薄膜を成膜する際によく用いられ、高信頼性の半導体やマイクロ電気機械システム(MEMS)の製造プロセスに適しています。

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  • オキシ塩化リン(POCl₃)

    学名はオキシ塩化リン(POCl₃)で、半導体拡散プロセスにおけるリンドーピング源として、シリコンウェーハの導電率を向上させるために使用されるリン含有化学物質です。MOSFETや太陽電池の製造など、N型ドーピングプロセスで一般的に使用されています。

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  • 特殊ガス

半導体関連原料

Semiconductor-Related Materials

高精密電路板上的電容器、晶片與連接器特寫。兆飛科技供應高品質聚亞醯胺等半導體相關原料 (Semiconductor-Related Materials),支援尖端電子產業研發與製造。
  • ポリイミド粉末

    ポリイミド(PI)は、優れた耐熱性、機械的強度、電気絶縁性、および化学的安定性を備えた高性能熱硬化性ポリマーです。半導体製造プロセスにおける材料として、高温安定性の高いキャッピング層、ボンディングワイヤ、ワイヤ封止材の製造によく用いられ、過酷な環境下でも優れた保護性能を発揮します。

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  • ポリアミド(PAA)

    ポリアミド酸(PAA)は、ポリアミドの前駆体材料であり、その学名はポリアミド酸です。溶解性に優れ、フォトリソグラフィー膜やその他の薄膜材料の製造に広く用いられています。PAAは熱処理によってポリアミドに変換でき、その優れた被覆性と機械的特性から、半導体、光電子部品、その他の電子部品の製造に幅広く利用されています。

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電子グレード溶剤

Electronic-grade Solvents

電腦主機板與精密電路元件連接埠特寫。兆飛科技專業進口多樣化高純度電子級溶劑 (Electronic-grade Solvents),確保電子零組件與光電製程的高潔淨度標準。
  • プロピレングリコールモノメチルエーテル(PM)

    学名:プロピレングリコールモノメチルエーテル(PM)

    これは、毒性が低く溶解度が高い一般的な有機溶剤です。電子機器製造工程において、洗浄や材料除去、特に特定の有機物や無機物の除去に広く用いられています。

    質問したいのですが
  • プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PMA)

    学名:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PMA)

    これは、プロピレングリコールモノメチルエーテルと酢酸を反応させて得られるエステル系溶剤です。この溶剤は優れた溶解性を持ち、特にフォトリソグラフィー材料、油汚れの除去、電子部品の洗浄に効果的です。

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  • エチレングリコールモノメチルエーテル(EM)

    学名:エチレングリコールモノメチルエーテル(EM)

    これは水溶性の有機溶剤であり、電子機器製造工程における洗浄剤として一般的に使用されている。様々な有機物質を溶解することができ、薄膜加工やフォトリソグラフィーに広く用いられている。

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  • ジエチレングリコールモノメチルエーテル(DEM)

    学名:ジエチレングリコールモノメチルエーテル(DEM)

    これは中極性の溶剤であり、主に電子機器製造工程におけるフォトリソグラフィー材料の洗浄および除去に使用され、他の溶剤と効果的に混合することで洗浄効果を高めることができます。

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  • トリエチレングリコールモノメチルエーテル(TEM)

    学名:トリエチレングリコールモノメチルエーテル(TEM)

    これは電子産業の洗浄工程で広く使用されている低揮発性溶剤であり、溶解しにくい物質に特に適しており、良好な溶解性と安定性を示す。

    質問したいのですが
  • エチレングリコールモノエチルエーテル(EE)

    学名:エチレングリコールモノエチルエーテル(EE)

    これは溶解力の強い溶剤であり、電子機器製造工程における有機汚染物質や残留物の除去によく用いられ、薄膜成膜や洗浄など幅広い用途がある。

    質問したいのですが
  • ジエチレングリコールモノエチルエーテル(DE)

    学名:ジエチレングリコールモノエチルエーテル(DE)

    これは中極性の溶剤で、電子部品の洗浄に適しており、特に溶解しにくい物質の除去に効果的で、電子機器のパッケージング工程にも使用できます。

    質問したいのですが
  • エチレングリコールモノブチルエーテル(EB)

    学名:エチレングリコールモノブチルエーテル(EB)

    これは低揮発性の溶剤で、半導体製造工程におけるフォトレジストの洗浄によく用いられます。優れた溶解性を持ち、特に油汚れや埃の除去に適しています。

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  • ジエチレングリコールモノブチルエーテル(DB)

    学名:ジエチレングリコールモノブチルエーテル(DB)

    これは中程度の溶解度を持つ溶剤で、半導体洗浄プロセス、特にフォトリソグラフィーやコーティングプロセスで一般的に使用され、粒子や残留物を効果的に除去することができます。

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  • エチレングリコールジメチルエーテル(EDM)

    学名:エチレングリコールジメチルエーテル(EDM)

    これは、電子機器製造における洗浄および除染工程で広く使用されている低揮発性の有機溶剤です。溶解性が高く、薄膜プロセスや微細構造の除去に適しています。

    質問したいのですが
  • ジエチレングリコールジメチルエーテル(DEDM)

    学名:ジエチレングリコールジメチルエーテル(DEDM)

    これは溶解性の高い溶剤であり、電子機器製造工程において洗浄や汚れ除去に一般的に使用され、特に高粘度で粘着性の高い物質の除去に適しています。

    質問したいのですが
  • ジエチレングリコールメチルエチルエーテル(DEMEE)

    学名:ジエチレングリコールメチルエチルエーテル(DEMEE)

    これは、電子機器製造工程における表面洗浄や材料除去に一般的に使用される中極性溶剤であり、薄膜プロセスの洗浄性能の向上や均一性の向上に適しています。

    質問したいのですが
  • ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート(DCAC)

    学名:ジエチレングリコール酢酸エチル(DCAC)

    これは強力な溶解性を持つ溶剤で、主に電子機器製造工程におけるフォトレジストの洗浄・除去に使用されます。グリース、汚染物質、残留物の除去に非常に効果的です。

    質問したいのですが
  • 3-エトキシプロピオン酸エチル(EEP)

    学名:3-エトキシプロピルアセテート(EEP)

    これは主に電子部品やプロセス機器の洗浄に使用される有機溶剤です。溶解性に優れており、特に有機汚れやその他の物質の除去に効果的です。

    質問したいのですが
  • Q1:Zhaofei Technologyの電子化学分野における主な製品ラインは何ですか?

    A1: 当社の製品ラインは、次の 3 つのコア領域をカバーしています。(1) フォトリソグラフィ プロセス試薬: フォトレジスト、現像剤、エッチング剤、密着促進剤、エッジ洗浄剤 (EBR) など。(2) ウェーハ プロセス原料: TEOS、HMDS、POCl₃、各種特殊ガスなど。(3) 電子グレード溶剤: 高純度プロピレングリコールエーテル、エチレングリコールエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、その他の精密溶剤など、さまざまな製品を提供しています。
  • Q2:これらの電子化学品は主にどの産業で使用されていますか?

    A2:メガテックの電子化学品は、半導体製造、光電子パネル産業、エネルギー電池製造、最先端の研究開発ラボなど、原材料の純度と安定性に極めて高い要求が課される分野で幅広く使用されており、お客様が精密製造プロセスの課題を克服するのに役立っています。
  • Q3:Zhaofei Technologyは、製造工程における化学物質の純度や配合に関する特別な要件に対応したカスタマイズサービスを提供していますか?

    A3:はい。当社は半導体および電子機器業界の厳しいプロセスパラメータ要件を理解しております。標準的な電子グレードの溶剤や原材料の供給に加え、お客様のニーズに合わせたソリューションもご提供しております。プロセス要件について当社の技術チームまでお気軽にお問い合わせください。最適な製品配合の評価をお手伝いいたします。
  • Q4:Zhaofei Technologyはどのようにして電子化学品の品質安定性を確保していますか?

    A4:当社は国際的な調達と輸入において豊富な経験を有しており、提携先はすべて世界トップクラスの化学メーカーです。輸入するすべての電子部品について、厳格な品質管理プロセスを実施し、出荷されるすべての製品が高水準の仕様を満たしていることを保証することで、お客様の生産ラインの安定稼働を維持しています。
  • Q5:電子化学薬品に関する関連製品カタログおよび技術データ(TDS/MSDS)はどのように入手できますか?

    A5:詳細な製品リスト、仕様書、または安全データシート(MSDS)が必要な場合は、カスタマーサービスホットライン(0975-571-150)までお電話いただくか、service@megactco.com.twまでメールをお送りください。メールには会社名と用途分野を明記してください。できるだけ早く技術サポートを提供いたします。