電子化學品
兆飛科技專注於進口高品質電子化學品，包括電子級溶劑、化學原料和特殊配方產品。廣泛應用於半導體、光電、電池等領域。我們擁有豐富的進口經驗和專業團隊，確保產品質量穩定可靠。提供客製化解決方案，滿足客戶需求。以卓越品質和優質服務為信念，共同實現電子產業發展目標。
黃光製程
Photolithography Process
顯影劑(Developer)
我要詢問學名為 四甲基氫氧化銨 (Tetramethylammonium Hydroxide, TMAH)，是一種鹼性水溶液，主要用於顯影光阻層，使曝光後未硬化的光阻溶解，形成精確的微影圖案。
光阻劑(Photoresist)
我要詢問學名為 感光聚合物 (Photosensitive Polymer)，常見類型包括 聚甲基丙烯酸甲酯 (Poly(methyl methacrylate), PMMA) 和 重氮萘醌-酚醛樹脂 (Diazonaphthoquinone-Novolac, DNQ-Novolac)。這類材料在受到光照後發生化學變化，用於形成半導體製程中的圖案。
蝕刻液(Etchant)
我要詢問常見學名為 氫氟酸 (Hydrofluoric Acid, HF) 或 磷酸 (Phosphoric Acid, H₃PO₄)，根據蝕刻材料的不同選擇不同種類的蝕刻液。濕蝕刻主要用於去除未受光阻保護的二氧化矽或氮化矽，以精確塑造電路結構。
助黏劑(Adhesion Promoter)
我要詢問學名為 六甲基二矽氮烷 (Hexamethyldisilazane, HMDS)，主要用於提升光阻與晶圓表面的附著力，防止光阻層在後續製程中剝離，提高圖案的完整性與可靠性。
洗邊劑(Edge Bead Remover, EBR)
我要詢問常見學名為 丙二醇單甲醚醋酸酯 (Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate, PGMEA)，是一種溶劑，主要用於去除晶圓邊緣多餘的光阻，以避免污染及影響後續製程品質。
晶圓相關原料
Wafer Processing Materials
原矽酸四乙酯(TEOS)
我要詢問學名為 四乙氧基矽烷 (Tetraethyl Orthosilicate, TEOS)，是一種常用的前驅物，在化學氣相沉積 (CVD) 製程中用來生成二氧化矽 (SiO₂) 薄膜，提供高均勻性和良好的介電特性，廣泛應用於半導體及光電子產業。
六甲基二矽胺(HMDS)
我要詢問學名為 六甲基二矽氮烷 (Hexamethyldisilazane, HMDS)，是一種表面處理劑，主要用於提升光阻與晶圓表面的附著力。它可在光刻製程中改善光阻層的穩定性，降低剝離風險，並提高微影圖案的解析度。
Trans-LC
我要詢問學名為 低應力矽碳化合物 (Low-Stress Silicon Carbide, Trans-LC)，是一種特殊的矽碳材料，常用於沉積低應力薄膜，以減少製程中的機械應力，適用於高可靠性的半導體及微機電 (MEMS) 製程。
三氯氧磷(POCl₃)
我要詢問學名為 三氯氧磷 (Phosphoryl Chloride, POCl₃)，是一種含磷化學物質，在半導體擴散製程中用作磷摻雜源，以提升矽晶片的導電性，常用於 N 型摻雜過程，如 MOSFET 和太陽能電池的製造。
特用氣體(Specialty Gases)
半導體相關原料
Semiconductor-Related Materials
聚亞醯胺粉體(Polyimide Powder)
我要詢問學名為 聚亞醯胺 (Polyimide, PI)，是一種高性能的熱固性聚合物，具有優異的耐高溫、機械強度、電絕緣性和化學穩定性。作為半導體製程中的材料，它常用於製作高溫下穩定的覆蓋層、焊接線、導線封裝等，能夠承受極端環境並提供絕佳的保護。
聚亞醯胺PAA(Polyamic Acid)
我要詢問學名為 聚亞醯胺酸 (Polyamic Acid, PAA)，是聚亞醯胺的前體材料，具有優良的溶解性，通常用於製作光刻膜和其他薄膜材料。PAA可經過熱處理轉化為聚亞醯胺，並被廣泛應用於半導體、光電子和其他電子元件的製造中，因為它提供了良好的覆蓋性和機械性質。
電子級溶劑
Electronic-grade Solvents
丙二醇單甲醚(PM)
我要詢問學名：Propylene Glycol Monomethyl Ether (PM)
是一種常見的有機溶劑，具有低毒性和高溶解力，廣泛應用於電子製程中的清潔和去除材料，特別是對某些有機物和無機物具有良好的溶解性。
丙二醇甲醚醋酸酯(PMA)
我要詢問學名：Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate (PMA)
是丙二醇單甲醚與醋酸反應得到的酯類溶劑。此溶劑具有優異的溶解性，特別是在去除光刻材料、油漬及電子元件清潔中表現良好。
乙二醇單甲醚(EM)
我要詢問學名：Ethylene Glycol Monomethyl Ether (EM)
是一種水溶性有機溶劑，常用於電子製程中作為清潔劑，能夠溶解各類有機物質，並在薄膜製程和光刻過程中應用廣泛。
二乙二醇單甲醚(DEM)
我要詢問學名：Diethylene Glycol Monomethyl Ether (DEM)
是一種中等極性的溶劑，主要應用於電子製程中的清洗、去除光刻材料，並能有效與其他溶劑混合以提升其清潔效果。
三乙二醇單甲醚(TEM)
我要詢問學名：Triethylene Glycol Monomethyl Ether (TEM)
是一種低揮發性的溶劑，廣泛用於電子行業的清潔工藝，特別適用於不易溶解的材料，具有良好的溶解性和穩定性。
乙二醇單乙醚(EE)
我要詢問學名：Ethylene Glycol Monoethyl Ether (EE)
是一種溶解性能強的溶劑，常用於去除電子製程中的有機污物和殘留物，並且在薄膜沉積和清潔中有著廣泛應用。
二乙二醇單乙醚(DE)
我要詢問學名：Diethylene Glycol Monoethyl Ether (DE)
是一種中等極性溶劑，適用於清洗電子元件，特別對於去除難溶解的物質有較好的效果，並可在電子封裝過程中使用。
乙二醇單丁醚(EB)
我要詢問學名：Ethylene Glycol Monobutyl Ether (EB)
是一種低揮發性的溶劑，常用於半導體製程中的光刻劑清潔，具有很好的溶解性能，尤其適用於去除油脂和污物。
二乙二醇單丁醚(DB)
我要詢問學名：Diethylene Glycol Monobutyl Ether (DB)
是一種具有中等溶解性的溶劑，通常用於半導體清潔工藝，尤其是在光刻和塗佈製程中，能夠有效去除顆粒和殘留物。
乙二醇二甲醚(EDM)
我要詢問學名：Ethylene Glycol Dimethyl Ether (EDM)
是一種低揮發性、有機溶劑，廣泛應用於電子製程中的清潔和去污工作，具有較強的溶解性，適用於薄膜製程和微細結構的去除。
二乙二醇二甲醚(DEDM)
我要詢問學名：Diethylene Glycol Dimethyl Ether (DEDM)
是一種具有高溶解性的溶劑，通常用於電子製程中清洗和去除污垢，特別適用於去除具有高粘性和強附著力的物質。
二乙二醇甲乙醚(DEMEE)
我要詢問學名：Diethylene Glycol Methyl Ethyl Ether (DEMEE)
是一種中等極性的溶劑，常用於電子製程中的表面清潔和去除材料，適用於提高清潔效果並增強薄膜製程的均勻性。
二乙二醇乙醚醋酸酯(DCAC)
我要詢問學名：Diethylene Glycol Ethyl Acetate (DCAC)
是一種溶解性能強的溶劑，主要用於電子製程中的光刻劑清潔和去除，對於去除油脂、汙染和殘留物效果顯著。
3-乙氧基丙酸乙酯(EEP)
我要詢問學名：3-Ethoxypropyl Acetate (EEP)
是一種有機溶劑，主要用於清潔電子元件和製程設備，具有優良的溶解性，特別是對於有機污垢和其他物質的去除效果較好。
