Bahan kimia elektronik

Nama ilmiahnya adalah tetramethylammonium hydroxide (TMAH), yang merupakan larutan berair basa yang terutama digunakan untuk mengembangkan lapisan photoresist, melarutkan photoresist yang belum mengeras setelah terpapar untuk membentuk pola mikro-litografi yang presisi.

Nama ilmiahnya adalah polimer fotosensitif, dan jenis yang umum meliputi poli(metil metakrilat) (PMMA) dan diazonaftokuinon-novolac (DNQ-Novolac). Material ini mengalami perubahan kimia ketika terkena cahaya dan digunakan untuk membentuk pola dalam proses manufaktur semikonduktor.

Umumnya dikenal sebagai asam fluorida (HF) atau asam fosfat (H₃PO₄), berbagai jenis larutan etsa dipilih tergantung pada bahan yang akan dietsa. Etsa basah terutama digunakan untuk menghilangkan silikon dioksida atau silikon nitrida yang tidak dilindungi oleh photoresist agar struktur sirkuit dapat dibentuk dengan tepat.

Nama ilmiahnya adalah heksametildisilazana (HMDS), yang terutama digunakan untuk meningkatkan daya rekat antara photoresist dan permukaan wafer, mencegah lapisan photoresist terkelupas dalam proses selanjutnya, dan meningkatkan integritas serta keandalan pola.

Nama ilmiah umumnya adalah propilen glikol monometil eter asetat (PGMEA), yang merupakan pelarut yang terutama digunakan untuk menghilangkan kelebihan photoresist di tepi wafer untuk menghindari kontaminasi dan memengaruhi kualitas proses selanjutnya.

Nama ilmiahnya adalah tetraetil ortosilikat (TEOS), yang merupakan prekursor umum yang digunakan dalam proses pengendapan uap kimia (CVD) untuk menghasilkan film tipis silikon dioksida (SiO₂), memberikan keseragaman tinggi dan sifat dielektrik yang baik, dan banyak digunakan dalam industri semikonduktor dan optoelektronik.

Nama ilmiahnya adalah heksametildisilazana (HMDS), suatu zat perawatan permukaan yang terutama digunakan untuk meningkatkan daya rekat photoresist pada permukaan wafer. Zat ini dapat meningkatkan stabilitas lapisan photoresist selama proses fotolitografi, mengurangi risiko pengelupasan, dan meningkatkan resolusi pola litografi.

Nama ilmiahnya adalah Low-Stress Silicon Carbide (Trans-LC), yang merupakan material silikon-karbon khusus. Material ini sering digunakan untuk pengendapan lapisan tipis bertegangan rendah guna mengurangi tegangan mekanis dalam proses dan cocok untuk proses semikonduktor dan sistem mikroelektromekanik (MEMS) dengan keandalan tinggi.

Nama ilmiahnya adalah fosfor oksiklorida (POCl₃), suatu zat kimia yang mengandung fosfor yang digunakan sebagai sumber doping fosfor dalam proses difusi semikonduktor untuk meningkatkan konduktivitas wafer silikon. Zat ini umumnya digunakan dalam proses doping tipe-N, seperti dalam pembuatan MOSFET dan sel surya.

Nama ilmiahnya adalah polimida (PI), polimer termoset berkinerja tinggi dengan ketahanan suhu tinggi yang sangat baik, kekuatan mekanik, isolasi listrik, dan stabilitas kimia. Sebagai material dalam proses manufaktur semikonduktor, ia sering digunakan untuk membuat lapisan penutup yang stabil pada suhu tinggi, kawat penghubung, dan enkapsulasi kawat, yang mampu menahan lingkungan ekstrem dan memberikan perlindungan yang sangat baik.

Nama ilmiahnya adalah asam poliamida (PAA), bahan prekursor untuk poliamida. Ia memiliki kelarutan yang sangat baik dan umum digunakan dalam pembuatan film fotolitografi dan bahan film tipis lainnya. PAA dapat diubah menjadi poliamida melalui perlakuan panas dan banyak digunakan dalam pembuatan semikonduktor, optoelektronik, dan komponen elektronik lainnya karena sifat pelapisan dan mekaniknya yang baik.

Nama ilmiah: Propylene Glycol Monomethyl Ether (PM)

Ini adalah pelarut organik umum dengan toksisitas rendah dan kelarutan tinggi. Pelarut ini banyak digunakan dalam proses manufaktur elektronik untuk membersihkan dan menghilangkan material, terutama untuk zat organik dan anorganik tertentu.

Nama ilmiah: Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate (PMA)

Ini adalah pelarut ester yang diperoleh dengan mereaksikan propilen glikol monometil eter dengan asam asetat. Pelarut ini memiliki kelarutan yang sangat baik, terutama dalam menghilangkan material fotolitografi, noda minyak, dan membersihkan komponen elektronik.

Nama ilmiah: Etilen Glikol Monometil Eter (EM)

Ini adalah pelarut organik yang larut dalam air, yang umumnya digunakan sebagai bahan pembersih dalam proses manufaktur elektronik. Pelarut ini dapat melarutkan berbagai zat organik dan banyak digunakan dalam pemrosesan film tipis dan fotolitografi.

Nama ilmiah: Dietilen Glikol Monometil Eter (DEM)

Ini adalah pelarut dengan polaritas sedang, terutama digunakan untuk membersihkan dan menghilangkan material fotolitografi dalam proses manufaktur elektronik, dan dapat dicampur secara efektif dengan pelarut lain untuk meningkatkan efek pembersihannya.

Nama ilmiah: Triethylene Glycol Monomethyl Ether (TEM)

Ini adalah pelarut dengan volatilitas rendah yang banyak digunakan dalam proses pembersihan di industri elektronik, dan sangat cocok untuk material yang tidak mudah larut, serta menunjukkan kelarutan dan stabilitas yang baik.

Nama ilmiah: Etilen Glikol Monoetil Eter (EE)

Ini adalah pelarut dengan sifat pelarutan yang kuat, sering digunakan untuk menghilangkan kontaminan dan residu organik dalam proses manufaktur elektronik, dan memiliki aplikasi luas dalam pengendapan dan pembersihan lapisan tipis.

Nama ilmiah: Dietilen Glikol Monoetil Eter (DE)

Ini adalah pelarut dengan polaritas sedang yang cocok untuk membersihkan komponen elektronik, terutama efektif dalam menghilangkan zat-zat yang sulit larut, dan juga dapat digunakan dalam proses pengemasan elektronik.

Nama ilmiah: Etilen Glikol Monobutil Eter (EB)

Ini adalah pelarut dengan volatilitas rendah, yang umumnya digunakan untuk membersihkan photoresist dalam proses pembuatan semikonduktor. Pelarut ini memiliki sifat pelarutan yang sangat baik dan sangat cocok untuk menghilangkan lemak dan kotoran.

Nama ilmiah: Dietilen Glikol Monobutil Eter (DB)

Ini adalah pelarut dengan kelarutan sedang, yang umum digunakan dalam proses pembersihan semikonduktor, terutama dalam proses fotolitografi dan pelapisan, di mana ia dapat secara efektif menghilangkan partikel dan residu.

Nama ilmiah: Etilen Glikol Dimetil Eter (EDM)

Ini adalah pelarut organik dengan volatilitas rendah yang banyak digunakan dalam proses pembersihan dan dekontaminasi di bidang manufaktur elektronik. Pelarut ini memiliki kelarutan yang kuat dan cocok untuk proses film tipis serta penghilangan struktur mikro.

Nama ilmiah: Dietilen Glikol Dimetil Eter (DEDM)

Ini adalah pelarut yang sangat mudah larut, yang umumnya digunakan dalam proses manufaktur elektronik untuk membersihkan dan menghilangkan kotoran, dan sangat cocok untuk menghilangkan zat dengan viskositas tinggi dan daya rekat kuat.

Nama ilmiah: Dietilen Glikol Metil Etil Eter (DEMEE)

Ini adalah pelarut dengan polaritas sedang yang umum digunakan untuk pembersihan permukaan dan penghilangan material dalam proses manufaktur elektronik, dan cocok untuk meningkatkan kinerja pembersihan serta meningkatkan keseragaman proses film tipis.

Nama ilmiah: Dietilen Glikol Etil Asetat (DCAC)

Ini adalah pelarut dengan sifat pelarutan yang kuat, terutama digunakan untuk membersihkan dan menghilangkan photoresist dalam proses manufaktur elektronik. Pelarut ini sangat efektif dalam menghilangkan lemak, kontaminan, dan residu.

Nama ilmiah: 3-Etoksipropil Asetat (EEP)

Ini adalah pelarut organik yang terutama digunakan untuk membersihkan komponen elektronik dan peralatan proses. Ia memiliki kelarutan yang sangat baik, terutama untuk menghilangkan kotoran organik dan zat lainnya.